產(chǎn)品列表
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電子化學(xué)品系列包括以下產(chǎn)品:
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)ATMP 氨基三甲叉膦酸 |
| 電子級(jí)ATMP為酸性液體，具有很強(qiáng)的金屬離子螯合能力，在半導(dǎo)體加工的研磨、拋光、蝕刻等工藝，可以提高研磨效率和光潔度，在顯示面板、PCB板蝕刻加工過(guò)程中使用可以減少毛刺，提高銅箔表面光潔度。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)HEDP 羥基乙叉二膦酸 |
| 電子級(jí)HEDP為電子級(jí)高純產(chǎn)品，具有很強(qiáng)的金屬離子螯合能力，在半導(dǎo)體加工的研磨、拋光、蝕刻等工藝，可以提高研磨效率和光潔度，在顯示面板、PCB板蝕刻加工過(guò)程中使用可以減少毛刺，提高銅箔表面光潔度。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)DTPMPA 二乙烯三胺五甲叉膦酸 |
| 電子級(jí)DTPMPA具有很強(qiáng)的金屬離子螯合能力，在半導(dǎo)體加工的研磨、拋光、蝕刻等工藝，可以提高研磨效率和光潔度，在顯示面板、PCB板蝕刻加工過(guò)程中使用可以減少毛刺，提高銅箔表面光潔度。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)EDTMPA 乙二胺四甲叉膦酸 |
| 電子級(jí)EDTMPA為白色結(jié)晶性粉末，具有很強(qiáng)的金屬離子螯合能力，在半導(dǎo)體加工的研磨、拋光、蝕刻等工藝，可以提高研磨效率和光潔度，在顯示面板、PCB板蝕刻加工過(guò)程中使用可以減少毛刺，提高銅箔表面光潔度 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)PAA聚丙烯酸 |
| 電子級(jí)聚丙烯酸（PAA）是由丙烯酸為單體均聚制得的水性分散劑，在研磨、拋光、清洗等方面抗再沉積能力強(qiáng)，PAA為電子級(jí)高純產(chǎn)品，特別適用于電子行業(yè)的清洗劑。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)MA-AA馬來(lái)酸-丙烯酸共聚物 |
| 電子級(jí)MA-AA是由馬來(lái)酸與丙烯酸按一定的比例共聚制得的水性分散劑，是一種低分子量的聚電解質(zhì)，在研磨、拋光、清洗等方面抗再沉積能力強(qiáng)，MA-AA為電子級(jí)高純產(chǎn)品，特別適用于電子行業(yè)的清洗劑。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)AA-AMPS 丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物 |
| 電子級(jí)AA-AMPS是由丙烯酸與2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸按一定的比例共聚而成的水性分散劑，分子結(jié)構(gòu)中含有羧酸基團(tuán)和磺酸基團(tuán)，在研磨、拋光、清洗等方面抗再沉積能力強(qiáng)，AA-AMPS為電子級(jí)高純產(chǎn)品，特別適用于電子行業(yè)的清洗劑。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)AA-HPA 丙烯酸-丙烯酸羥丙酯共聚物 |
| 電子級(jí)AA-HPA是由丙烯酸與丙烯酸羥丙酯按一定的比例共聚而成的水性分散劑，分子結(jié)構(gòu)中含有羧酸基團(tuán)和酯基，在研磨、 拋光、清洗等方面抗再沉積能力強(qiáng)，AA-HPA為電子級(jí)高純產(chǎn)品，特別適用于電子行業(yè)的清洗劑。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)鹽酸 |
| 電子級(jí)鹽酸可用于電子器件的蝕刻和清洗。還用于金屬表面化學(xué)處理,激光用混合氣、膠片生產(chǎn)及碳纖維表面處理。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)亞磷酸 |
| 電子級(jí)亞磷酸是白色晶體，可用于電子器件的蝕刻和清洗。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)山梨酸 |
| 電子級(jí)山梨酸可用于電子元件的蝕刻、清洗。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)丁二酸 |
| 電子級(jí)丁二酸可用于電子器件的蝕刻、清洗。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)氨基磺酸 |
| 電子級(jí)氨基磺酸對(duì)金屬離子具有較強(qiáng)的螯合能力，在半導(dǎo)體加工的研磨、拋光、蝕刻、以及顯示面板、PCB板蝕刻的過(guò)程中有較好的螯合、清洗效果。 | |
| 【電子化學(xué)品】 | 電子級(jí)光刻膠用酚醛樹(shù)脂 |
| 光刻膠用酚醛樹(shù)脂是一種電子級(jí)高純度樹(shù)脂，樹(shù)脂中各種金屬雜質(zhì)控制達(dá)到了ppb級(jí)，適合多種光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)。 其特點(diǎn)是分子結(jié)構(gòu)具有較強(qiáng)的反應(yīng)活性，能夠在光刻膠顯影過(guò)程中不溶脹、抗等離子蝕刻性強(qiáng)、耐高溫、分辨率好、堿溶解速率快并具備與重氮萘醌感光劑的反應(yīng)能力。 | |